? 上一篇下一篇 ?

淺析:等離子噴涂-物理氣相沉積

 北京耐默公司作為專業制作噴涂陶瓷涂層廠家,在此介紹噴涂陶瓷涂層、熱噴涂陶瓷、氧化鋁涂層、氧化鉻涂層、氧化鋯涂層、噴涂陶瓷、陶瓷涂層相關知識,希望對大家會有幫助。
等離子噴涂物理氣相沉積(PS-PVD)是一種基于低壓等離子噴涂技術的新型多功能薄膜和涂層制備技術。由于其獨特的等離子射流特性,可以實現氣-液-固兩相的多相沉積,實現非視線沉積。本文介紹了國內外PS-PVD等離子體數值模擬和在線檢測技術的研究現狀。其次,討論了PS-PVD柱狀熱障涂層的形成機理,以及PS-PVD柱狀熱障涂層與傳統熱障涂層在熱導率和耐腐蝕性方面的差異。介紹了PS-PVD技術在環保涂料制備中的研究進展。
采用等離子噴涂物理氣相沉積(PS-PVD)技術,在5個噴涂距離內噴涂成團聚的Zr O_2-7wt%Y_2o_3(7ysz)粉末,制備了熱障涂層。采用場發射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)和X射線衍射(XRD)分析了五種涂層的顯微結構和相組成。此外,利用OES診斷研究了7YSZ粉末蒸汽濃度隨噴霧距離的變化規律。介紹了氣相沉積涂層的三種不同生長機理,并解釋了射流中粉末狀態和蒸汽濃度對涂層結構的影響。


結果表明:
(1)致密結構涂層形成在350 mm和1800 mm的噴霧間距,而典型的PS-PVD柱狀結構涂層形成在650-1250 mm的噴霧間距。
(2)噴涂在350 m噴涂距離的涂層由四方(t)和單斜(m)氧化鋯組成。噴涂距離大于650 mm時,涂層主要為四方(T′)氧化鋯。
(3)由高濃度蒸汽過飽和自發成核和液/固顆粒形成的新核的相互作用形成350 mm的噴霧間距,在650-1250 mm的噴霧間距下,非自發成核主要發生在襯底上的氣相沉積,阿西斯TED由射流中的氣相自發成核;在1800 mm的噴霧間距下,具有氣體超冷凝的顆粒形成涂層。